温室黄瓜生长点消失症和花打顶易混淆两者有哪些区别

黄瓜是具有十分可观的价值的经济作物，许多农户选择种植黄瓜，来增加收入，目前黄瓜种植主要是温室种植和露天种植，今天小编来说说温室黄瓜生长点消失症！
温室黄瓜生长点消失症是近年来新发生的一种生理性病害，典型是黄瓜生长点逐渐变小至终消失(即“无头”现象)，常伴有泡泡叶发生，叶片往往较正常叶片大而肥厚易与花打顶混淆，其主要区别：
一、不同

生长点消失随着叶片叶位升高，叶片变大，叶色深绿，叶间距明显短缩，植株长势旺盛，茎秆变粗或变化不明显，至少不变细，有的茎秆呈扁平状，瓜条生长速度比较快且粗而大，瓜条色泽深绿；花打顶随着叶位升高叶片逐渐变小，叶色黄绿，叶间距也短缩，但没有前者明显，长势较弱，黄瓜植株茎秆愈往上愈变细，瓜码较多，瓜条生长速度比较慢，且细而小，瓜条色泽黄绿。
二、发生时间不同

生长点消失主要发生于3-4月份，花打顶可在温室黄瓜整个生育期发生。
三、发病原因不同

生长点消失主要是由于温度管理不合理，影响营养物质的运输而导致；花打顶主要是栽培管理措施不当，营养生长与生殖生长不协调而导致。

温室黄瓜生长点消失症在目前技术条件下从发生到恢复正常结瓜约需50-60天，一般棚室发生同期产量降低60-80％ ，严重者产量降低90％以上。居温室黄瓜各种病虫害损失之首。且随着温室黄瓜种植面积的增加、种植年限的延长，其危害有逐年加重的趋势。

温度是影响温室黄瓜生长点消失症的主要因素。土壤温度过低时根系正常生理活动受到抑制，影响温室黄瓜的正常生长发育。此外温度与光合产物的运输有密切的关系，温度过低同化物质运输受阻，黄瓜叶片白天制造的营养物质只有25％左右在白天运输到根、茎、花和果实等部位中去，75％左右的营养物质的运输在前半夜进行。

营养物质的运输适宜温度为20-25℃ ，温度低于15℃，营养物质的运输便停止，使养分积累于叶片中，黄瓜生长点得不到足够的营养，导致生长点“饥饿”而萎缩，逐步退化，终消失。
四、预防和措施

1、预防措施

棚室黄瓜一旦发生该病害，恢复时间比较长，对产量影响比较大，因此做好预防工作显得尤为重要，主要措施是：

1）选用耐低温品种。温室黄瓜栽培是在环境条件不能完全满足黄瓜正常生长发育的条件下的强迫生长，其本身长势比较弱，抗性比较差。可选用博耐、吉选2 号等耐低温品种。

2）科学调控温湿度。采用温室黄瓜四段变温管理：即上半天棚室温度保持 25-30℃，空气相对湿度30%-70%；下半天温度 25-30℃，湿度65%-90%；前半夜温度20-15℃
湿度90%-95%；后半夜温度 15-10℃，湿度 95%-100%。尤其是前半夜温度不能低于 15℃，以利于营养物质的运输，使黄瓜生长点得到足够的营养。通过加盖防寒膜、科学通风换气等措施调控棚室内的温湿度，既能满足黄瓜正常生长发育的需求，又能有效地控制黄瓜生长点消失症等病害的发生。

3）加强栽培管理。通过低温炼苗、培育壮苗、增施有机肥及钾肥、补施微肥、适时适度中耕提高棚室土壤温度等栽培管理措施，提高其抗逆性，促使黄瓜健壮生长。
2、措施
①提高棚室内夜间温度，缩小昼夜温差。对于已发生黄瓜生长点消失症的棚室，提高棚室夜间温度尤其是前半夜的温度（大于 18℃），缩小昼夜温差，促进营养生长，抑制生殖生长，促发生长点。
②合理灌水施肥。适时适度灌水，使棚室土壤湿度达90%以上，保证黄瓜不缺水。增施肥，每667㎡施尿素 10-15kg，每隔 10天施 1次。叶面喷施481、磷酸二氢钾等调节剂，加速生长点恢复的速度。
③适度中耕。由于人经常行走，易造成宽行土壤板结，使土壤通透性变差，根系生理功能易过早衰退，吸水吸肥能力变差，不利于黄瓜生长发育。一般 15-20天中耕 1 次，深度 10-15cm。距离黄瓜植株 15cm以内不宜中耕，以免破坏过多根系，影响温室黄瓜的正常生长发育。

以上就是关于温室黄瓜生长点消失症的预防以及治理方案，希望能给大家带来帮助！

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